Артикул

1835002018

AQUA MER® ME720 представляет собой сухой пленочный фоторезист,
разработанный компанией Zhuhai Dynamic Technology с использованием
сочетания ранее разработанных технологий светочувствительных материалов и
процесса нанесения покрытий для использования в производстве печатных плат.
AQUA MER® ME720 представляет собой негативный фотопроявляемый
фоторезист разработанный для процесса формирования тонких проводников при
гальваническом осаждении меди, олова, олово/свинца, тентинг-процессе и
травлении. ME720 предназначен для проявления в слабощелочном растворе,
таком как карбонат натрия (Na2CO3), и для удаления в щелочном растворе, таком
как гидроксид натрия (NaOH) или растворе органического амина. AQUA MER®
ME720 представляет собой высокоэффективный фоторезист для гальв

Толщина: 50 мкм
Использование: Тентинг, гальванические покрытия медь-олово, олово/свинец, никель/золото, кислое и щелочное травление.
Хранить в условиях отсутствия возможности УФ-облучения при температуре 15 – 20 °C и относительной влажности 40 - 70%.